桥梁用钢绞线 美国封了七年, 却没封住: 中国正在造出自己的 EUV

发布日期:2025-12-26 点击次数:159
钢绞线

当我们回顾过去七八年的中美科技博弈桥梁用钢绞线,会发现一个很清晰的边界线。

在芯片设计、软件生态、制造节点这些问题上,美国愿意竞争,甚至愿意容忍一定程度的追赶。

但只有一个环节例外:极紫外(EUV)光刻机。

在这个问题上,华盛顿从一开始就态度明确,与其面对一个未来桥梁用钢绞线可能追上的对手,不如从一开始就把路封死。

原因其实很简单。EUV 不是某一家公司的优势产品,而是最难替代的基础设施。只要这一关卡在自己手里,美国就能决定谁有资格进入下一代算力体系,谁只能永远在门外徘徊。

所以我们看到的,是一套近乎偏执的封锁逻辑:设备不卖,零部件不转,技术文件不共享,连工程师的流动都要被盯住。美国不是在保护产业,而是在维护一条它认为绝不能被中国打破的技术边界。

也正是在这样的高压背景下,路透社 12 月 17 日披露的那条消息,才会让许多人感到震惊——在深圳,一台能够产生极紫外光的光刻设备原型,已经完成搭建,并进入测试阶段。

如果这条信息属实,那它意味着一件事:

美国花了七年时间精心构筑的那道防火墙,第一次开始出现裂痕了。

那些“消失了名字”的工程师

问题来了:ASML 用了近二十年以及数十亿欧元的代价,才把 EUV 变成可商用产品,中国凭什么可以发展的这么快?

路透社为我们给出了答案。

深圳这个项目的核心团队,并不是从零开始。他们当中,有人曾长期在 ASML 工作,做过光源、做过系统集成,真正参与过那台机器在现实世界里一次次失败、一次次修正的过程。

正因为如此,这些人一回国,立刻进入了高度匿名的状态。化名、假身份证、封闭园区,彼此之间甚至不询问真实身份。

这种场景,在中国的历史上并不陌生。

上世纪六十年代,一批科学家隐去姓名,离开城市,进入荒无人烟的戈壁滩。在极端艰苦的条件下,他们日复一日地推进一项几乎不允许失败的工程任务。

而在如今的深圳,有一群人沿着同一条历史脉络,在新的技术战场上浴血奋斗。

这意味着中国已经默认:这不是一场可以慢慢来的技术追赶,而是一场必须承受外部压力的长期对抗。

林楠的案例尤其典型。作为 ASML 前光源技术负责人,他回国后加入中科院上海光机所,在 18 个月内申请了 8 项 EUV 光源专利。

这种节奏,已经不属于正常的“科研”,而属于一种高度压缩、目标明确的攻关冲刺。

而国家给出的条件也毫不掩饰——几百万签约金、几乎不设上限的科研经费、以及最重要的:安全与保护桥梁用钢绞线。

从这开始,我们就该明白,国家已经不认为这是一场和平竞赛。

被逼出来的工程路线

从外观上看,这台原型机并不优雅。

天津市瑞通预应力钢绞线有限公司

体积巨大,结构笨重,远远谈不上 ASML 那种高度集成的工业美感。但这并不是设计能力不足,而是基于现实条件下的无奈妥协。

因为在封锁之下,最先进的零部件根本买不到。

那怎么办?中国选了一条看起来“很土”、但极其有效的路:拆。

拆旧机器,拆退役设备,拆 DUV,拆任何能拆的东西。通过二手市场、拍卖平台、复杂的中间商网络,一点一点凑齐那些关键却不起眼的部件。

深圳实验室里,有上百名年轻工程师,专门做一件事:拆、复原、验证。每一个动作都被记录,每一个成功的复原都会立刻固化成工程经验。

正是这种方法,让 13.5 纳米的极紫外光,第一次在国产设备上稳定射向硅片。

而当工程路线被确定之后,另一个问题随之出现:

谁来把全国分散的力量拧成一条线,确保这条路线能持续推进?

华为:站在前线的那家公司

谈中国半导体,钢绞线厂家华为始终是一个绕不开的名字。

路透社的报道进一步印证了这一点:华为的角色,早已不只是芯片设计公司,而是整个国产半导体体系中,最关键的协调节点之一。它所做的,并不是单点突破,而是把分散在各处的力量,强行拧到同一条战线上。

在深圳的项目现场,华为工程师深度参与,但各个团队之间保持着高度隔离。有人形容那里不像传统意义上的研发中心,更像一座被切割成无数功能单元的工厂——每个单元只负责自己那一段任务,却共同指向同一个目标。

这种状态下的工作强度,外界很难想象。知情人士透露,参与核心攻关的人员在工作日期间几乎不回家,实验室里铺满了行军床。研发与生活被压缩到同一空间,时间被拉到极限。

正是通过旗下的投资体系和庞大的技术协作网络,华为把全国成千上万名工程师重新编组,形成了一张高度联动的工程网络。原本分散的科研力量,被迫进入同一节奏。

任正非曾说,华为要“捅破天”。从今天回看,这句话指向的,正是那层美国花了几十年时间构建起来的技术防火墙。

真正的硬骨头:光学系统

当然,原型机出现并不意味着明天就能量产 3nm。EUV 最难的部分,依然集中在光学系统,尤其是反射镜。

目前最突出的短板,集中在光学系统。EUV 光刻机所需的反射镜,对材料和加工精度的要求极端苛刻,现阶段,全球范围内只有德国蔡司具备成熟能力。

这些反射镜的精度要求,你可以简单理解为:把北京城这么大的面积抹平,高低起伏不能超过 1 毫米。任何微小误差,都会在极紫外波段被无限放大。

中国的长春光机所虽然已经在反射镜集成上取得突破,使原型机具备运行能力,但距离商业化生产所要求的良率和长期稳定性,仍然存在不小差距。

ASML 首席执行官富凯曾公开表示,中国要真正掌握 EUV 还需要“很多很多年”。他的底气,正来自这些极端的材料科学和光学工艺壁垒。

但问题在于,中国并非从零开始。

正如 SemiAnalysis 分析师 Jeff Koch 所指出的那样,商用 EUV 已经存在,这意味着工程目标是明确的。接下来的工作,不是凭空发明,而是在既定答案的约束下,一步步完成复杂而漫长的工程实现。

这两者的难度,并不相同。

也正是在这一判断之上,时间开始变得可以被讨论。

2030,不只是一个年份

路透社给出的时间表——2028 年试产,2030 年更现实——之所以重要,并不在于它是否会精确兑现。

真正重要的是,它第一次把“突破封锁”,从一种遥远的设想,拉进了可以被推演的现实区间。

如果这个节点被触及,受到冲击的绝不仅仅是半导体产业。

封锁是否还能作为一种长期有效的工具存在?

全球供应链的权力,是否还能被少数国家永久垄断?

在 AI、先进武器系统和算力竞争中,谁还有资格单方面规定起跑线和终点线?

这些问题,都会被重新摆上桌面。

美国用尽手段想要永久封死的那条路,并没有消失。

在深圳那台仍显笨重的设备内部,一束极紫外光已经被稳定点亮。

从戈壁滩到深圳,从核试验场到超洁净厂房,中国一次次走到同一个历史节点:

当外部世界试图用封锁决定我们的命运时,总有人引领着我们走向正确的道路。

技术战争还远没有结束。

但至少在这一刻,可以确认一件事——

未来,不再只由别人书写。

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